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8英寸匀胶显影机 ACD8 COATER&DEVELOPER

  • 详细描述
设备配置 2C2D、4C、4D
设备产能 120WPH
衬底材质 Si、Glass等
线宽 ≥90nm
适用工艺 i一line、KrF、ArF、PI、SOG、SOC
应用领域 IC、先进封装、MEMS、功率器件、射频集成、科研等
技术特征 ◼设备占地面积小,产能高,工艺单元灵活选配;
◼热板采用渐进式烘烤,冷盘渐进式冷却;
◼能适应5mm以下翘曲晶圆或超薄晶圆传送和加工工艺;
◼标配电动泵,标配匀胶显影管路温控功能;
◼可实现两种尺寸完全兼容;
◼可选配高精度热板、光学对中、WEE等单元部件;
◼可选配interface模块,实现Inline功能。
设备尺寸 1680*1550*2500mm(W*D*H)