单片湿法刻蚀机AEHETCH
| 设备配置 | 2-4 chamber |
| 设备产能 | 60WPH（Gu Ti刻蚀） |
| 衬底材质 | Si、SiC、Glass、GaAs、InP |
| 适用工艺 | 氧化硅/氮化硅刻蚀（SiOx/SiNx etch）、金属刻蚀/Metal etch(Cu Ti Au Cr Ni etc.)、氧化铟锡/氧化铟镓锌（ITO/IGZO）等 |
| 工艺指标 | 介质刻蚀均匀性＜5%、金属刻蚀均匀性＜5%、颗粒控制（≤20ea@0.16um） |
| 金属离子控制（Fe Ca: 5E9 atms/cm2 ；others: 1E10 atms/cm2） | |
| 应用领域 | IC、功率器件、射频集成、半导体光学、光通讯、科研 |
| 技术特征 | ◼机台可实现多尺寸兼容； ◼工艺腔体经过优化设计，提供优秀的洁净度控制； ◼可适用多种药液如SPM(H2SO4:H2O2),SC-1(NH4OH:H2O2:H20),SC-2(HCL:H2O2:H2O) ，HF，HNO3，H3PO4等，最多可实现4种药液的循环回收使用； ◼可配合使用Nano spray工艺和IPA N2 dry等干燥工艺。 |
| 设备尺寸 | 2560*2513*2500（W*D*H） |