全芯微首台12英寸前道ArF匀胶显影设备（Track）顺利交付！
发布时间：2025-08-22
2025年8月19日，全芯微公司于客户现场成功交付首台自主研发的12英寸前道ArF匀胶显影设备（Track），该设备正式投入客户生产线，这标志着全芯微公司在突破高端IC制程设备壁垒方面取得了重大进展。
匀胶显影设备是集成电路制造前道关键工艺设备之一，其技术与性能直接关系到光刻工艺的精细度和良率。长期以来，Track设备市场被少数国际巨头所垄断，该设备国产化率不足3％，其国产化突破是我国集成电路产业链自主可控的关键环节之一。
本次交付的12英寸ArF匀胶显影机系统突破了匀胶显影设备的多项关键技术，其集成了匀胶、显影、对中等模块化单元，通过机械手实现晶圆在各工艺模块间的自动化传输，有效保障了生产流程的效率和稳定性。设备配置的高精密陶瓷热盘单元和边缘曝光（WEE）单元，具备良好的温度控制均匀性和工艺一致性。该机型的成功开发，实现了公司在逻辑电路、存储芯片、CMOS射频电路、功率器件、驱动芯片和OLED等制造领域的应用突破。
首台ArF匀胶显影设备的成功交付，为公司进一步突破芯片先进制程奠定了基础。全芯微将继续聚焦超大规模集成电路领域，推进技术研发与产品创新，为客户提供高性能、高可靠性的工艺设备解决方案，助力行业发展。
匀胶显影设备是集成电路制造前道关键工艺设备之一，其技术与性能直接关系到光刻工艺的精细度和良率。长期以来，Track设备市场被少数国际巨头所垄断，该设备国产化率不足3％，其国产化突破是我国集成电路产业链自主可控的关键环节之一。
本次交付的12英寸ArF匀胶显影机系统突破了匀胶显影设备的多项关键技术，其集成了匀胶、显影、对中等模块化单元，通过机械手实现晶圆在各工艺模块间的自动化传输，有效保障了生产流程的效率和稳定性。设备配置的高精密陶瓷热盘单元和边缘曝光（WEE）单元，具备良好的温度控制均匀性和工艺一致性。该机型的成功开发，实现了公司在逻辑电路、存储芯片、CMOS射频电路、功率器件、驱动芯片和OLED等制造领域的应用突破。
首台ArF匀胶显影设备的成功交付，为公司进一步突破芯片先进制程奠定了基础。全芯微将继续聚焦超大规模集成电路领域，推进技术研发与产品创新，为客户提供高性能、高可靠性的工艺设备解决方案，助力行业发展。