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6英寸匀胶显影机 MINI型 ACD6 COATER&DEVELOPER

  • 详细描述
设备配置 1C1D、2C、2D
衬底材质 Si、Glass、Sapphire、GaAs、InP、GaN、SiC、LT、LN等
线宽 ≥0.35um
适用工艺 G-line、i-line、PI
应用领域 MEMS、功率器件、射频集成、光通讯、科研等
技术特征 设备结构紧凑、占地面积小(面宽仅1.1m) ;
功能齐全,具备EBR、BSR、RRC、胶嘴自动保湿清洗等功能,可选配更换便捷的针管式胶嘴;
可做两种尺寸完全兼容,不需要更换零件;
可选配光刻胶显影液温控, HMDS等单元部件。
设备尺寸 1180*1450*2040mm(W*D*H)